Contichrom® TWIN 300 LPLC - Polishing
Das Contichrom® TWIN 300 LPLC – Polishing ist ein sanitäres Chromatographiesystem für das kontinuierliche Polishing von Biologika im Produktionsmaßstab. Es kombiniert die vollen MCSGP-Prozessfunktionen der TWIN HPLC mit dem für die biopharmazeutische Herstellung erforderlichen sanitären Design. MCSGP mit AutoPeak® eliminiert den Kompromiss zwischen Ausbeute und Reinheit und liefert eine Steigerung der absoluten Ausbeute um +10–50 % bei Zielreinheit sowie bis zu 70 % weniger Pufferverbrauch im Vergleich zur Batch-Chromatographie. Mit vier LEWA ecodos Triplex-Pumpen und einem CIP-fähigen sanitären Fließweg aus Edelstahl 316L oder Hastelloy ist das System speziell für das Polishing von monoklonalen Antikörpern, viralen Vektoren, ADCs und rekombinanten Proteinen unter Verwendung von IEX-, HIC- und Mixed-Mode-Harzen konzipiert. Erhältlich mit einem maximalen Betriebsdruck von 7,5 bar und einer 21 CFR Part 11-konformen Automatisierung. Das TWIN 300 bietet Flussraten von 0,03 – 3,33 L/min.
- Contichrom® TWIN 300 LPLC - Polishing
- Contichrom® TWIN 500 LPLC - Polishing
- Contichrom® TWIN 1000 LPLC - Polishing
- Contichrom® TWIN 2000 LPLC - Polishing
Übersicht
Kontinuierliches Polishing für die biopharmazeutische Herstellung
Das Contichrom® TWIN LPLC – Polishing ist ein sanitäres Chromatographiesystem für das kontinuierliche Polishing von Biologika im Produktionsmaßstab. Es kombiniert die vollen Prozesskapazitäten des TWIN HPLC mit dem für die biopharmazeutische Herstellung erforderlichen sanitären Design.
- Kontinuierliches Doppelspalten-Polishing (MCSGP mit AutoPeak®)
- Sanitäres Design mit CIP-Fähigkeit, maximaler Betriebsdruck 7,5 bar
- 4× LEWA ecodos Triplex-Pumpen für den vollen MCSGP-Betrieb
- Fließwege aus Edelstahl 316L oder Hastelloy
- 21 CFR Part 11-konforme Software mit vollständigem Audit-Trail
Ein System, mehrere Prozesse
Eine einzige sanitäre Plattform für Polishing- und Batch-Operationen:
| Modus | Technologie |
|---|---|
| Batch | Einzelsäulen-Batch-Aufreinigung |
| 2D Integrated Batch | Zwei orthogonale Schritte, ein automatisierter Prozess |
| Kontinuierliches Polishing | MCSGP mit AutoPeak® |
- Wechseln Sie zwischen Batch-, integrierten und MCSGP-Modi
- Die dynamische AutoPeak®-Steuerung gewährleistet eine gleichbleibende Qualität
- Ermöglicht einen kontinuierlichen Fertigungsbetrieb rund um die Uhr
MCSGP: Kontinuierliches Polishing im Produktionsmaßstab
MCSGP mit AutoPeak® löst den Kompromiss zwischen Reinheit und Ausbeute:
| Metrik | Wert |
|---|---|
| Ausbeute | +10–50 % absolute Steigerung der Ausbeute bei Zielreinheit |
| Lösungsmittel/Puffer | Bis zu 70 % Reduktion |
| Re-Chromatographie | Eliminiert |
- Unreine Seitenfraktionen werden recycelt und auf der zweiten Säule erneut getrennt
- AutoPeak® passt die Sammelfenster dynamisch über Echtzeit-UV an
AutoPeak® – Dynamische Prozesssteuerung
AutoPeak® passt die Sammelfenster während der MCSGP mittels Echtzeit-UV-Triggern an:
- Kompensiert Prozessdrift, Säulenalterung und Variabilität des Feeds
- Liefert konsistente Reinheit und Ausbeute ohne Eingreifen des Bedieners
- Minimiert das Risiko von Anwenderfehlern bei längeren Produktionsläufen
- Ermöglicht eine robuste, kontinuierliche Fertigung rund um die Uhr
- Macht den Prozess im kommerziellen Maßstab wirtschaftlicher und zuverlässiger
Umfassendes Anwendungsspektrum
Polishing im Produktionsmaßstab für Biopharmazeutika:
| Anwendung | MCSGP | 2D Integrated Batch |
|---|---|---|
| mAbs & Antikörper-Varianten | ✓ | ✓ |
| Virale Vektoren (AAV) | ✓ | ✓ |
| Antikörper-Wirkstoff-Konjugate | ✓ | ✓ |
| Rekombinante Proteine | ✓ | ✓ |
- Alle Prozesse laufen auf derselben sanitären Hardware
- Fließwege aus Edelstahl 316L oder Hastelloy für chemische Kompatibilität
Skalierbar vom Labor bis zur Produktion
Teil der Contichrom®-Plattform mit etablierten Transferprotokollen:
| System | Flussrate | Säulen-ID |
|---|---|---|
| CUBE 30/100 | 0,1–100 mL/min | 0,5–5 cm |
| TWIN LPLC 300 | 0,03–3,33 L/min | 10–20 cm |
| TWIN LPLC 500 | 0,08–8,33 L/min | 20–45 cm |
| TWIN LPLC 1000 | 0,15–18,9 L/min | 30–60 cm |
| TWIN LPLC 2000 | 0,5–36 L/min | 60–100 cm |
- Entwickeln Sie auf dem CUBE und skalieren Sie direkt auf TWIN LPLC Polishing hoch
- Konsistente AutoPeak®-Steuerungsprinzipien über alle Systeme hinweg
Sanitäres Design für das Bioprocessing
Speziell für biopharmazeutische Herstellungsumgebungen entwickelt:
- Vollständig sanitärer Fließweg mit entleerbarem Design und CIP-Kompatibilität
- ASME-BPE-konforme Edelstahlschweißnähte an allen produktberührten Oberflächen
- Fließwegmaterialien aus Edelstahl 316L oder Hastelloy
- Produktberührte Schläuche nach SF5-Spezifikation (≤ 20 Ra EP)
- Ausgelegt für NaOH 1M CIP und kompatibel mit aseptischen Single-Use-Schnittstellen
- Maximaler Betriebsdruck von 7,5 bar – geeignet für IEX-, HIC- und Mixed-Mode-Harze
Entwickelt für GMP-Konformität
Gebaut, um strenge Anforderungen der biopharmazeutischen Herstellung zu erfüllen:
- Entwickelt unter dem GAMP 5-Framework
- 21 CFR Part 11-konforme Software mit Audit-Trail
- Umfassendes Turnover Package (TOP) mit ASME-BPE-konformen Schweißnähten
- USP Class VI-Materialien und FDA-zugelassene Dichtungen
- UL-zugelassene Panels, CE-Kennzeichnung einschließlich PED-Konformität
TOP beinhaltet: MTRs, Druckprüfberichte, Passivierungsberichte, Schweißdokumentation, Bestandszeichnungen.
Hardware in Produktionsqualität
Ein komplettes, auf einem Rahmen montiertes System mit vier Pumpen für volle MCSGP-Kapazität:
- 4× Pumpen – LEWA ecodos Triplex mit Membranbruchsignalisierung
- Duale UV-Detektoren – 4-Kanal mit einstellbarer Wellenlänge (200–600 nm), 0,5 mm Pfadlänge
- 4× Coriolis-Durchflussmesser – Präzise Durchflussüberwachung und -steuerung
- pH, Leitfähigkeit & Temperatur – Standardmäßig nach der Säule
- Luftsensoren – Vor der Pumpe und vor der Säule
- Pneumatikventile – Sanitäres Design, schnell schaltend bei niedrigem Druck
- 24″ HMI – Industrieller Touchscreen mit FactoryTalk View SE
CIP-bereites Design
Das Contichrom® TWIN LPLC – Polishing ist für Cleaning-in-Place konzipiert:
- Spezielle CIP-Einlass- und Auslassverteiler, die in das Ventilnetzwerk integriert sind
- Vollständig entleerbares Fließwegdesign minimiert Verschleppungen zwischen Kampagnen
- Kompatibel mit NaOH 1M CIP-Protokollen
- Optionale aseptische Single-Use-Schnittstelle für Reinräume mit niedrigerer Klassifizierung
- Reduziert die Durchlaufzeit und unterstützt den Betrieb von Multi-Produkt-Anlagen
Funktionsweise
Sanitäre Hardware für die biopharmazeutische GMP-Polishing-Chromatographie
Das Contichrom TWIN LPLC – Polishing ist eine komplette sanitäre, auf einem Rahmen montierte Einheit für die GMP-Herstellung:
- Mobiler Rahmen mit Nivellierfüßen und nicht markierenden Lenkrollen
- Rahmen aus Edelstahl 316L mit mechanisch polierten Schweißnähten
- Sanitärer Fließweg, ausgelegt auf Entleerbarkeit und CIP
- Zwei Säulenpositionen für MCSGP und unabhängigen Batch-Betrieb
- Betriebstemperatur: 4–25 °C Umgebung, 4–40 °C Prozess
LEWA ecodos Triplex-Pumpen
Vier industrielle Triplex-Membranpumpen für MCSGP und Gradientenpräzision:
| Pumpe | Rolle |
|---|---|
| Pumpe A | Gradientenkomponente A / Feed |
| Pumpe B | Gradientenkomponente B |
| Pumpe C | Waschen / Regeneration |
| Pumpe D | Zusatz- / Verbindungsfluss |
- Triplex-Konfiguration für nahezu pulsationsfreien Fluss
- Sandwich-Membran mit Membranbruch-Alarm
- Automatische Hubverstellung für optimale Leistung
- PTFE-Membranen – USP Class VI zertifiziert, FDA-zugelassen
- Vier Pumpen ermöglichen den vollen kontinuierlichen MCSGP-Polishing-Betrieb
Pneumatisches Ventilnetzwerk
Sanitäre Pneumatikventile – schnell schaltend bei niedrigem Druck:
- Einlass-Wählventile – 4–6 Anschlüsse pro Pumpe für automatisierte Pufferumschaltung
- Säulenschaltventile – Für die MCSGP-Seitenfraktionsleitung und -verbindung
- Fraktionsauslassventile – 5+ Produkt-/Abfallauslässe mit Entleerung
- CIP-Verteiler – Spezieller Einlass und Auslass für Cleaning-in-Place
- Materialien: Gehäuse aus Edelstahl 316L, PTFE/EPDM-Membran, SF5-Spezifikation (≤ 20 Ra EP)
- Bei niedrigem Druck bieten Standard-Pneumatikventile die schnelle Betätigung, die MCSGP erfordert
Zwei-Wellenlängen-UV-Detektoren
Zwei UV-Sensoren nach der Säule für Echtzeit-Überwachung und AutoPeak®-Steuerung:
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Typ | 4-Kanal, Mehrwellenlängen-DAD, 200–600 nm |
| Pfadlänge | 0,5 mm Pfad (austauschbar gegen 0,1, 0,3 oder 1 mm) |
- Positioniert am Auslass jeder Säule für unabhängige Überwachung
- Liefert die UV-Trigger, die die dynamische AutoPeak®-Prozesssteuerung für MCSGP ermöglichen
In-Line-Prozesssensoren
| Sensor | Anzahl | Spezifikation |
|---|---|---|
| Coriolis-Durchflussmesser | 4 | Durchflussüberwachung und -steuerung |
| pH | Nach der Säule (×2) | 0–13 pH, ±0,15 Einheiten |
| Leitfähigkeit | Nach der Säule (×2) | 0–200 mS/cm, ±1 % des Messwerts |
| Druck | Mehrere | 0–13,8 bar, ±1 % FS |
| Temperatur | Pro Säule | 0–100 °C, ±0,25 °C |
| Luftsensoren | Zuleitungen | Ultraschall-Detektion |
- Coriolis-Meter überwachen alle vier Pumpendurchflussraten
- pH- und Leitfähigkeitssensoren an beiden Auslasskanälen (Abfall- und Sammelpfad) als Standard
Säulenmanagement
Flexible Säulenkonfigurationen für den Produktionsmaßstab:
- 2 Säulenpositionen für den MCSGP-Doppelspaltenbetrieb
- Säulen-ID-Bereich: 10–100 cm (je nach Modell)
- 7,5 bar maximaler Betriebsdruck
- Sanitäre Tri-Clamp-Anschlüsse für die Säulenbefestigung
- Einzelsäulen-Batch-Modus verfügbar
Mensch-Maschine-Schnittstelle (HMI)
Systemsteuerung über Industrie-PC mit FactoryTalk View SE:
| Komponente | Spezifikation |
|---|---|
| Touchscreen | 24″ Industrie-HMI, Schalttafelmontage |
| Industrie-PC | Vorinstalliert mit Steuerungssoftware |
| Betriebssystem | Windows 11 Professional |
- Echtzeit-Prozessvisualisierung, Rezeptmanagement, Chargenprotokollierung
Fließweg in GMP-Qualität
Jede produktberührte Oberfläche wurde nach biopharmazeutischer Kompatibilität ausgewählt:
| Komponente | Materialien |
|---|---|
| Produktberührte Schläuche | Edelstahl 316L oder Hastelloy, ≤ 20 Ra EP (SF5-Spezifikation) |
| Nicht produktberührte Schläuche | Edelstahl 316L, ≤ 20 Ra MP (SF1-Spezifikation) |
| Prozessventile | Gehäuse aus Edelstahl 316L, PTFE/EPDM-Membran |
| Pumpenmembranen | PTFE (USP Class VI, FDA-zugelassen) |
- ASME-BPE-konforme Schweißnähte, entleerbares Design, CIP-kompatibel
- Oberflächenrauheit < 0,8 µm Ra an benetzten Metallteilen
SPS-basiertes Steuerungssystem
Industrielle Automatisierungsplattform:
| Komponente | Spezifikation |
|---|---|
| SPS-Plattform | Rockwell CompactLogix |
| HMI-Runtime | FactoryTalk View SE |
| Prozesssteuerung | MCSGP mit AutoPeak® |
| Datenbank | Microsoft SQL Server |
| Historian | YMC Server Historian |
| Berichte | YMC Server Reports (automatisch generiert) |
| Fernzugriff | HMS Ewon-Modul (kundenseitig aktiviert) |
Optionale Hardware
| Option | Spezifikation |
|---|---|
| Buffer In-line Dilution (BID) | Pumpe E + Einlassventile + statischer Mischer + Sensoren |
| Zusätzliche Einlassventile | Bis zu 6 pro Pumpe |
| Zusätzliche Auslassventile | Bis zu 5 Fraktionen + 1 Abfall |
| Filtergehäuse | Einzeln oder doppelt mit Ventilverteilern |
| Blasenfänger | 2 mit Ventilverteiler und Entlüftungsventilen |
| CIP-Verteiler | Aseptischer Single-Use-Beutelanschluss |
| Software-Anpassungen | Handshake mit Upstream-/Downstream-Equipment, zusätzliche Regelkreise, externe Ventil-/Gerätesteuerung |
Prozesskapazitäten
Kontinuierliches Polishing für die biopharmazeutische Produktion
Das TWIN LPLC – Polishing bringt das kontinuierliche MCSGP-Polishing in einem sanitären Design in die Biopharmazie:
- MCSGP mit AutoPeak® – Kontinuierliches Polishing
- 2D Integrated Batch – Zwei orthogonale Schritte, ein automatisierter Prozess
- Batch – Einzelsäulen-Gradienten- und isokratischer Betrieb
- Alles zugänglich über eine einzige sanitäre Plattform
- Pneumatikventile ermöglichen schnelles Schalten bei niedrigem Druck
MCSGP mit AutoPeak® – Kontinuierliches Polishing
Kontinuierliches Doppelspalten-Polishing, das den Kompromiss zwischen Reinheit und Ausbeute eliminiert:
- Unreine Seitenfraktionen werden automatisch identifiziert und in die zweite Säule zurückgeführt
- Nahezu vollständige Rückgewinnung bei Zielreinheit – keine Re-Chromatographie
- AutoPeak® passt die Sammelfenster dynamisch über Echtzeit-UV an
- Pneumatikventile schalten schnell bei niedrigem Druck – ideal für sanitäre Systeme
- Kontinuierlicher, automatisierter Betrieb für die Fertigung rund um die Uhr
Ziel: Gradienten-Polishing-Trennungen (IEX, HIC, Mixed-Mode) Moleküle: mAbs, Antikörper-Varianten, virale Vektoren (AAV), ADCs, rekombinante Proteine
MCSGP – Leistungssteigerungen
| Metrik | Ergebnis |
|---|---|
| Ausbeute | +10–50 % absolute Steigerung der Ausbeute bei Zielreinheit |
| Pufferverbrauch | Bis zu 70 % Reduktion |
| Re-Chromatographie | Eliminiert |
| Säulengröße | Kürzere Säulen – verbesserte Produktivität |
| Prozesssteuerung | AutoPeak® ermöglicht kontinuierlichen Betrieb rund um die Uhr |
| Qualität | Gleichbleibende Reinheit unabhängig von der Variabilität des Feeds |
Eine Säule wird beladen, während die andere eluiert – kontinuierlicher Ausstoß, maximale Harzausnutzung, gleichbleibende Qualität.
2D Integrated Batch – Mehrstufige Automatisierung
Koppeln Sie zwei orthogonale Chromatographieschritte in einem einzigen automatisierten Prozess:
- Das Produkt von Säule 1 wird direkt mit In-Line-Verdünnung auf Säule 2 übertragen
- Keine Zwischentanks oder manuelle Handhabung
- Beispiel: IEX-Polishing (Dim 1) → HIC-Polishing (Dim 2)
- Reduziert Prozesszeit, QC-Aufwand und Platzbedarf der Anlage
Moleküle: mAbs, Antikörper-Varianten, virale Vektoren (AAV), ADCs, rekombinante Proteine
Batch-Chromatographie
Einzelsäulen-Batch-Aufreinigung:
| Modus | Anwendungen |
|---|---|
| Isokratisch | SEC, Entsalzung, Affinität |
| Gradient | IEX-, HIC-, Mixed-Mode-Polishing |
- Lineare oder Stufengradienten
- Mehrere Fraktionssammlungs-Auslässe (5+)
- Vollständige UV-/Durchfluss-/Drucküberwachung
Buffer In-line Dilution (BID)
Integrierte Verdünnung von Pufferkonzentraten und CIP-Lösungen:
- Dritte Pumpe (Pumpe E) liefert Verdünnungspuffer in kontrolliertem Verhältnis
- Statischer Mischer gewährleistet homogene Mischung
- Ermöglicht pH-Anpassung zwischen Capture- und Polishing-Schritten
- Unterstützt sequentielle Verarbeitung für poolfreie mehrstufige Chromatographie
Erfordert: BID-Option (Pumpe E, Einlassventile, statischer Mischer, Sensoren)
Regulatorische Konformität & Dokumentation
Zertifizierungen
- UL-zugelassene Schaltschränke
- CE-Kennzeichnung einschließlich PED-Konformität
- Entwickelt unter dem GAMP 5-Framework
- Entspricht den FDA 21 CFR Part 11-Vorschriften
Normen & Richtlinien
- ASME-BPE für alle produktberührten Edelstahlschweißnähte
- FDA-zugelassene USP Class VI-Materialien und Dichtungen
- UL-zugelassene Schaltschränke
- CE-Kennzeichnung mit PED-Konformität
Materialien & Dokumentation
- Fließwege aus Edelstahl 316L oder Hastelloy für biopharmazeutische Kompatibilität
- ASME-BPE-konforme Schweißnähte an allen produktberührten Oberflächen
- Vollständige Rückverfolgbarkeit mit MTRs und Konformitätsbescheinigungen
- Produktberührte Oberfläche: < 0,8 µm Ra (SF5-Spezifikation: ≤ 20 Ra EP)
- Turnover Package (TOP) mit umfassender QA/QC-Dokumentation
TOP beinhaltet: MTRs, Konformitätsbescheinigungen, Druckprüfberichte, Passivierungsberichte, Schweißdokumentation (Protokolle, Inspektionsberichte, Isometrien), Gefälleverifizierung, Betriebs- und Wartungshandbücher, Bestandszeichnungen (PDF und natives CAD/Solidworks).
Spezifikationen
Systemmodelle
| Parameter | TWIN 300 | TWIN 500 | TWIN 1000 | TWIN 2000 |
|---|---|---|---|---|
| Flussrate | 0,03 – 3,33 L/min | 0,08 – 8,33 L/min | 0,15 – 18,9 L/min | 0,5 – 36 L/min |
| Säulen-ID | 10–20 cm | 20–45 cm | 30–60 cm | 60–100 cm |
| Max. Betriebsdruck | 7,5 bar | 7,5 bar | 7,5 bar | 7,5 bar |
| Bestens geeignet für | Pilot / Klinisch | Mittlerer GMP-Maßstab | Großer GMP-Maßstab | Maximale Kapazität |
Allgemeine Spezifikationen
| Spezifikation | Wert |
|---|---|
| Max. Betriebsdruck | 7,5 bar (0,75 MPa / 109 psi) |
| Betriebstemperatur | 4–25 °C Umgebung; 4–40 °C Prozess |
| Design | Sanitär, CIP-kompatibel (NaOH 1M) |
| Benetzte Materialien | Edelstahl 316L oder Hastelloy, PTFE, EPDM (USP Class VI) |
| Oberflächengüte | < 0,8 µm Ra (Produktkontakt), SF5-Spezifikation: ≤ 20 Ra EP |
| Steuerungssystem | Rockwell CompactLogix SPS |
| Prozesse | Batch, 2D Integrated Batch, MCSGP |
Physikalische Spezifikationen
| Modell | Länge | Breite | Höhe | Ca. Gewicht |
|---|---|---|---|---|
| TWIN 300 | 218 cm | 127 cm | 203 cm | 2494 kg |
| TWIN 500 | 299 cm | 165 cm | 198 cm | 3055 kg |
| TWIN 1000 (Pumpe) | 360 cm | 140 cm | 230 cm | 4455 kg |
| TWIN 1000 (Prozess) | 140 cm | 90 cm | 200 cm | 1364 kg |
| TWIN 2000 (Pumpe) | 381 cm | 152 cm | 230 cm | 4763 kg |
| TWIN 2000 (Prozess) | 147 cm | 101 cm | 200 cm | 1543 kg |
Pumpen (LEWA ecodos)
| Konfiguration | 4× Triplex-Membranpumpen |
| Membran | Sandwich-PTFE mit Membranbruchsignalisierung |
| Materialien | USP Class VI zertifiziert, FDA-zugelassen |
| Merkmale | Automatische Hubverstellung, nahezu pulsationsfreier Fluss |
Detektoren & Sensoren
| UV-Detektion | 4-Kanal, Mehrwellenlängen-DAD, 200–600 nm, 0,5 mm Pfad (austauschbar gegen 0,1, 0,3 oder 1 mm) |
| Durchflussmesser (×2) | Coriolis |
| Druck (×8) | Messumformer im gesamten Fließweg, 0–13,8 bar, ±1 % FS |
| pH | Nach der Säule, 0–13, ±0,15 Einheiten |
| Leitfähigkeit | Nach der Säule, 0–200 mS/cm, ±1 % des Messwerts |
| Temperatur | Nach der Säule, 0–100 °C, ±0,25 °C bei 25 °C |
| Luftsensoren | Vor der Pumpe und vor der Säule (Ultraschall) |
Ventile & Fließweg
| Ventilbetätigung | Pneumatische Membranventile |
| Ventilmaterialien | Gehäuse aus Edelstahl 316L, PTFE/EPDM-Membran |
| Produktkontakt | SF5-Spezifikation: ≤ 20 Ra EP |
| Nicht produktberührt | SF1-Spezifikation: ≤ 20 Ra MP |
| Säulenanschlüsse | Sanitäre Tri-Clamp |
| CIP | Spezielle Einlass- und Auslassverteiler |
Software & Automatisierung
| SPS-Plattform | Rockwell CompactLogix |
| HMI-Runtime | FactoryTalk View SE |
| Prozesssteuerung | MCSGP mit AutoPeak® |
| Datenbank | Microsoft SQL Server |
| Historian | YMC Server Historian |
| Berichte | YMC Server Reports (automatisch generiert) |
| Fernzugriff | HMS Ewon-Modul (kundenseitig aktiviert) |
| Datenintegrität | 21 CFR Part 11, Audit-Trail, elektronische Signaturen |
Benutzeroberfläche
| HMI | 24″ Industrie-Touchscreen, Schalttafelmontage |
| Industrie-PC | Vorinstalliert mit Steuerungssoftware |
| Betriebssystem | Windows 11 Professional |
Optionale Module
| Option | Spezifikation |
|---|---|
| Buffer In-line Dilution (BID) | Pumpe E + Einlassventile + statischer Mischer + Sensoren |
| Zusätzliche Einlassventile | Bis zu 6 pro Pumpe |
| Zusätzliche Auslassventile | Bis zu 5 Fraktionen + 1 Abfall |
| Filtergehäuse | Einzeln oder doppelt mit Ventilverteilern |
| Blasenfänger | 2 mit Ventilverteiler und Entlüftungsventilen |
| CIP-Verteiler | Aseptischer Single-Use-Beutelanschluss |
| Software-Anpassungen | Handshake mit Upstream-/Downstream-Equipment, zusätzliche Regelkreise, externe Ventil-/Gerätesteuerung |
